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                更新時間:2021-10-22

                型號:BTF-1200C-II-PECVD

                瀏覽量:130

                CVD系統是借助于輝光放電等方法產生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。通過反應氣態放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式,低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點,工藝流程簡單。
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                更新時間:2021-10-14

                型號:

                瀏覽量:180

                流化床—粉體碳納米管生長設備通過流量計和靜態混氣室把氣體均勻混拌,通過上通氣,氣體通過雙層管(夾層管預熱氣體,內腔體生長碳納米管)確保通入的氣體進入生長腔體內溫度一直,通過多空陶瓷網的結構設計,從而解決均勻進氣的問題。使的生長腔體熱場流場穩定,確保得到高質量重復性好的碳納米管。
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